制藥廠空氣凈化系統_制藥廠工業空氣凈化系統設備裝置
摘要：制藥廠空氣凈化系統，制藥廠空氣凈化等各種工業，有機廢氣處理工程中，我公司采用產品：活性炭吸附，光解凈化，低溫等離子凈化器等凈化設備。具體看廢氣成份濃度等由技術人員來設計安裝。 制藥廠空氣凈化方法 z直接的是掩蔽法，通過噴淋臭味掩蔽劑，這種比較適合垃圾填埋場等； 物理處理：活性炭或沸石吸附、離子化、臭氧、紫外光解、光觸媒氧化、共振量子協同技術； 化學方法：苛性鈉、無機或有機酸、亞鐵離子等；
制藥廠空氣凈化系統，制藥廠空氣凈化等各種工業，有機廢氣處理工程中，我公司采用產品：活性炭吸附，光解凈化，低溫等離子凈化器等凈化設備。具體看廢氣成份濃度等由技術人員來設計安裝。
制藥廠空氣凈化方法
直接的是掩蔽法，通過噴淋臭味掩蔽劑，這種比較適合垃圾填埋場等； 物理處理：活性炭或沸石吸附、離子化、臭氧、紫外光解、光觸媒氧化、共振量子協同技術； 化學方法：苛性鈉、無機或有機酸、亞鐵離子等； 生物法：泥炭處理、生物滴濾塔等。
處理運行成本的話生化法較低，但系統不夠穩定、成熟，沒有及時性；物理法運行成本其次，系統穩定、成熟，有及時性，對于部分臭氣成分無法處理；化學法成本較高，技術難度大。
制藥廠空氣凈化系統/裝置/設備
本凈化設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
制藥廠空氣凈化處理設備利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它 ** 性異味有立g見影的清除效果。
制藥廠惡臭氣體利用排風設備輸入到臭氣處理設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
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