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    制藥廠空氣凈化系統_制藥廠工業空氣凈化系統設備裝置

    摘要:制藥廠空氣凈化系統,制藥廠空氣凈化等各種工業,有機廢氣處理工程中,我公司采用產品:活性炭吸附,光解凈化,低溫等離子凈化器等凈化設備。具體看廢氣成份濃度等由技術人員來設計安裝。 制藥廠空氣凈化方法 z直接的是掩蔽法,通過噴淋臭味掩蔽劑,這種比較適合垃圾填埋場等; 物理處理:活性炭或沸石吸附、離子化、臭氧、紫外光解、光觸媒氧化、共振量子協同技術; 化學方法:苛性鈉、無機或有機酸、亞鐵離子等;

    制藥廠空氣凈化系統,制藥廠空氣凈化等各種工業,有機廢氣處理工程中,我公司采用產品:活性炭吸附,光解凈化,低溫等離子凈化器等凈化設備。具體看廢氣成份濃度等由技術人員來設計安裝。

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    制藥廠空氣凈化方法

    直接的是掩蔽法,通過噴淋臭味掩蔽劑,這種比較適合垃圾填埋場等;  物理處理:活性炭或沸石吸附、離子化、臭氧、紫外光解、光觸媒氧化、共振量子協同技術;  化學方法:苛性鈉、無機或有機酸、亞鐵離子等;  生物法:泥炭處理、生物滴濾塔等。

    處理運行成本的話生化法較低,但系統不夠穩定、成熟,沒有及時性;物理法運行成本其次,系統穩定、成熟,有及時性,對于部分臭氣成分無法處理;化學法成本較高,技術難度大。

    制藥廠空氣凈化系統/裝置/設備

    本凈化設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

    制藥廠空氣凈化處理設備利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它 ** 性異味有立g見影的清除效果。

    制藥廠惡臭氣體利用排風設備輸入到臭氣處理設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。



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